Suyuq sikloheksan CAS 110-82-7 fotorezist hal qiluvchi sifatida

Mahsulotlar tavsifi

Sikloheksan nima?

Siklogeksan rangsiz, uchuvchi organik erituvchi bo'lib, past sirt tarangligi va yuqori eruvchanligi bilan ajralib turadi. Uning CAS raqami 110-82-7, EINECS raqami 203-806-2, kimyoviy formulasi C₆H₁₂, molekulyar og'irligi 84,16. Zichlik 0,77, erish nuqtasi 6,5 daraja, qaynash nuqtasi 81 daraja. Yonish nuqtasi -18 daraja, suvda deyarli erimaydi, 37,7 daraja bug 'bosimi 168,8 mmHg, havoga nisbatan bug'ning zichligi 2,9.

Asosiy ma'lumotlar

Foydalanadi

Fotorezist hal qiluvchi sifatida sikloheksan quyidagi afzalliklarga ega:

• Yaxshi eruvchanlik: u fotorezistlarda qatronlar va fotosensibilizatorlar kabi turli komponentlar uchun yaxshi eruvchanlikka ega va bu komponentlarni barqaror va bir xil fotorezist tizimini hosil qilish uchun eritmada bir tekis taqsimlanishi mumkin, bu esa substratda bir xil qarshilik plyonkasining keyingi shakllanishiga yordam beradi.
• Past qaynash nuqtasi va uchuvchanlik: Uning qaynash nuqtasi taxminan 81 daraja, bu nisbatan past. Fotorezist bilan qoplanganidan so'ng, u tezda bug'lanishi mumkin, shuning uchun qarshilik plyonkasi tezda quritilishi, ishlov berish vaqtini qisqartirishi va ishlab chiqarish samaradorligini oshirishi mumkin. Bundan tashqari, fotolitografiya jarayonida fotokimyoviy reaktsiyaning aniqligi va naqshning uzatilishi erituvchi qoldiqlari tomonidan ta'sir qilmaydi.
• Yuqori kimyoviy barqarorlik: Yuqori kimyoviy barqarorlikka ega, fotorezistdagi komponentlar bilan kimyoviy reaksiyaga kirishish oson emas va fotolitografiya jarayonida yorug'lik, rivojlanish va hokazo sharoitida parchalanishi yoki yomonlashishi oson emas. Bu fotorezistning ishlashi barqarorligini ta'minlashi va fotolitografiya naqshining sifati va aniqligini ta'minlashi mumkin.
• Past sirt tarangligi: Sikloheksan past sirt tarangligiga ega, bu qoplama paytida fotorezist eritmaning substrat yuzasiga yaxshiroq tarqalishiga imkon beradi, bir xil va tekis qarshilik plyonka hosil qiladi, bu fotolitografiyaning o'lchamlarini yaxshilash va notekis plyonka qalinligi yoki notekis yuzadan kelib chiqqan naqsh nuqsonlarini kamaytirish uchun foydalidir.
• Xarajat-samaradorligi: Bu nisbatan keng tarqalgan va arzon organik erituvchi boʻlib, manbalari keng. Fotorezistlarni ommaviy ishlab chiqarishda{2}}sikloheksanni erituvchi sifatida ishlatish ishlab chiqarish xarajatlarini kamaytirishi va yaxshi iqtisodiy amaliylikka ega bo‘lishi mumkin.

Xavfsizlik ma'lumotlari

Yonuvchan manbalardan uzoqroq tuting.
Ko'z bilan aloqa qilishdan saqlaning.
Statik elektr energiyasini ishlab chiqarishni oldini olish uchun ehtiyot choralarini ko'ring.
Ushbu materialni va uning idishini xavfli chiqindilar sifatida tashlang.
Atrof-muhitga tarqalishdan saqlaning. Maxsus ko'rsatmalar/Xavfsizlik ma'lumotlar varag'iga qarang.
Agar yutib yuborilsa, qusishni qo'zg'atmang; darhol shifokorga murojaat qiling va idish yoki yorliqni ko'rsating.
Konteynerni{0}}yaxshi shamollatiladigan joyda saqlang.

Kompaniya profili

Gneebiofitokimyoviy va nozik kimyoviy moddalarni tadqiq qilish, ishlab chiqish, ishlab chiqarish va sotishga ixtisoslashgan korxona hisoblanadi. Fabrikamız 2016 yilda tashkil etilgan va Henan provintsiyasida joylashgan bo'lib, 3600 kvadrat metr maydonni egallaydi. Bizda 10 yildan ortiq ilmiy-tadqiqot ishlari boʻyicha tajribaga ega boʻlgan professional, yaxshi{5}}jihozlangan va yuqori sifatli{6}}Ar-ge guruhi mavjud. Bizningreaktivmahsulotlar Amerika Qo'shma Shtatlari, Rossiya, Kanada, Avstraliya, Evropa va boshqalar kabi ko'plab mamlakatlarga keng eksport qilinadi va biz mijozlarimizga tezkor etkazib berish xizmatlarini taqdim etamiz. Kelajakda koʻproq doʻstlar bilan uzoq muddatli va oʻzaro manfaatli hamkorlikni-oʻrnatishga hamda mijozlarimiz uchun eng yaxshi mahsulot va xizmatlarni taqdim etishga umid qilamiz.

Bizning mashhur mahsulotlarimizga organik kimyoviy moddalar kiradi:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Feniliodoshidroksi tosilat, katalizator:CAS 110-02-1 Tiofen, boshqalar qatorida.

Biz bilan bog'lanish

TSS